羅姆首次實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝
摘要: 本產(chǎn)品于世界首次※成功實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內(nèi)部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實(shí)現(xiàn)更低損耗的同時還可減少部件個數(shù)。生產(chǎn)基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),從6月份開始出售樣品,從7月份開始陸續(xù)量產(chǎn)。
3) 正向電壓降低70%以上,減少了損耗和部件個數(shù)
SiC-MOSFET的體二極管,在SiC物質(zhì)特性的原理上決定了其開啟電壓較大,高達(dá)2.5V以上,常常成為逆變器工作時的損耗。“SCH2080KE”集SiC-SBD與SiC-MOSFET于同一封裝內(nèi),大大降低了正向電壓。不僅損耗更低,還可減少部件個數(shù)。
4) 無尾電流,可進(jìn)行低損耗開關(guān)
由于不會產(chǎn)生Si-IGBT中常見的尾電流,因此關(guān)斷時的開關(guān)損耗可減少90%,有助于設(shè)備更加節(jié)能。另外,達(dá)到了Si-IGBT無法達(dá)到的50kHz以上的開關(guān)頻率,因此,可實(shí)現(xiàn)外圍設(shè)備的小型化、輕量化。
【術(shù)語解說】
體二極管(Body diode)
MOSFET的結(jié)構(gòu)中,寄生于內(nèi)部而形成的二極管。逆變器工作時,電流經(jīng)過此二極管,因此要求具備低VF值和高速恢復(fù)特性。
尾電流(Tail current)
IGBT中的關(guān)斷時流過的瞬態(tài)電流。因空穴注入的積累時間而產(chǎn)生。此期間內(nèi)需要較高的漏極電壓,因此產(chǎn)生較大的開關(guān)損耗。
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor:絕緣柵雙極晶體管)
不僅電子,不同的空穴,電流流經(jīng)而實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻的功率晶體管。因空穴注入的積累時間無法高速動作,具有開關(guān)損耗較大的問題。
正向電壓(VF :Forward Voltage)
正向電流流經(jīng)時二極管產(chǎn)生的電壓值。數(shù)值越小耗電量越小。
導(dǎo)通電阻
功率元件工作時的電阻值。這是影響功率MOSFET性能的最重要的參數(shù),數(shù)值越小性能越高。
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